光的散射特性對高端光學表面、薄膜和材料的發展起著至關重要的作用。對于光學表面，常常用粗糙度來確定光學表面受散射影響后的光學特性。對于諸如不均勻體、亞表面損傷和局部缺陷的散射常常會忽略掉，而這些散射對系統有很大的影響，如造成散射損耗、像質變差等。
角分辨散射測量法及其應用
利用光散射測量光學粗糙表面是目前發展較為快速和成功的技術，人們對這種技術做了大量的研究工作，使得光散射系統已經成為測量光學元件表面質量的主要手段之一。概括起來，光學表面的散射測量方法主要包括角分辨散射測量法和總積分散射測量法，二者分別以矢量散射理論和標量散射理論為理論基礎。角分辨散射(AngleResolvedScattering，簡稱ARS)測量法是利用散射光的光強及其分布來測量表面粗糙度參數。總積分散射(TotalIntegratedScattering，簡稱TIS)測量法中，入射光以很小的入射角照射到隨機粗糙表面上，用積分球收集粗糙表面散射的漫反射光或者包含鏡向反射在內的總體反射光。TIS法一般儀器結構簡單、成本低、測量速度快、不易受環境影響，但最主要缺點是無法獲得光學表面形貌的全部特征及散射光的空間分布。ARS法雖然儀器結構復雜，成本較高，但能夠精確測量光散射的空間分布，并通過其全空間積分，得到表面的總積分散射值，從而能夠獲取更完整更詳細的散射特性。ARS測試如下圖：
在紅外元件、低損耗反射鏡（如激光腔鏡）、表面粗糙度及缺陷、衍射光柵、薄膜、光學材料的體散射、無破壞的亞表面損傷測量、光譜散射等精密器件及高精領域中，通常都需要對散射特性進行定量評估，不僅能得到散射分布，更能夠幫助我們對光學表面進行表征，如金剛石車削的鋁反射鏡，左圖是車削痕跡引起的衍射為主的散射分布，而右圖則是振動引起的衍射峰被抑制而入射面外散射增強。而散射損耗的測量在短波長、高分辨率、光刻、天文、激光等領域中尤為重要。
主要測試設備
MLS系列角分辨散射測量儀
波長覆蓋范圍：355nm~10.6um
樣品最大尺寸：650mm
高動態范圍和高靈敏度：至少10個數量級，可見光等效噪聲ARS<10-6 sr-1
表面類型：平面 & 曲面
360°全空間測量，輸出模式包括ARS , BRDF, BTDF, R, T, TS, 表面粗糙等等。
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